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这里有您关心的企业动态与行业资讯一、固化炉的作用
固化炉是半导体制造工艺中的重要设备，主要用于固化光刻胶。在半导体制造过程中，光刻胶的主要用途是作为光刻层，进行半导体器件的图案定义。光刻胶在晶圆表面涂布并经过铂加热等处理后固化，形成具有所需图案形状的模板。在后续的半导体器件制造过程中，通过在光刻层上完成刻蚀、离子注入等步骤，最终形成具有电路功能的半导体器件。
固化炉主要的作用就是将涂覆在晶圆表面的光刻胶进行固化，使得光刻胶分子发生交联反应，从而在后续制程中不容易发生热变形或者溶胀损坏。
二、固化炉的原理
固化炉的原理是利用高温快速将光刻胶（通常是甲基异丙基酮基树脂）分子间化学键发生交联反应，形成网络结构，从而使其形成固态。当光刻胶被涂覆于硅片上时，暴露于紫外线下进行曝光。此时，未曝光的区域被保护，未改变化学性质；而被曝光的区域则发生化学反应，明显劣于未曝光的区域，将其去除。然后，在固化炉中，通过快速加热处理，使得光刻胶中的化学键发生交联反应，形成网络结构，从而使其固化。固化后的光刻胶形成了厚度均匀、平整度高的表层，可以作为半导体制造过程的激光速度。
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